De que material é feita a máscara EUV?

A máscara da EUV é refletiva, mas nossa máscara comum é transmissiva. Por que isso está acontecendo?

Por que a máscara da EUV é refletiva?

O comprimento de onda da luz EUV é de 13,5 nm, e esse comprimento de onda extremamente curto é fortemente absorvido ao passar por qualquer material, resultando em nenhum material transparente adequado para transmitir efetivamente a luz EUV, tornando as máscaras de transmissão tradicionais inviáveis ​​na litografia EUV. Estrutura da máscara EUV

Conforme mostrado na figura acima, a máscara EUV adota uma estrutura de filme multicamadas que usa o princípio de reflexão de Bragg para refletir a luz EUV. Ela pode atingir uma refletividade de até cerca de 70%, o que melhora a precisão e a eficiência da litografia.
Revestimento antirreflexo (ARC) (Anti-Reflective Coating): Reduz a reflexão na superfície do retículo e aumenta a eficiência da absorção de luz. Absorvente: A camada de câmbio real do padrão de litografia que absorve luz EUV não refletida. Geralmente, os materiais da camada absorvente são Ta, TaN, TaBN e assim por diante. Ru capping: Protege a estrutura da membrana multicamadas contra oxidação e danos.

Espelho multicamadas Mo/Si (Espelho multicamadas de molibdênio/silício): 40 a 50 camadas alternadas de silício e molibdênio são depositadas sobre o substrato LTEM como uma camada reflexiva de Bragg para reflexão máxima de EUV no comprimento de onda de 13,5 nm.
Material de baixa expansão térmica (LTEM) (Low thermal expansion material): Material de substrato de máscara com alta estabilidade térmica e alteração dimensional mínima em face de mudanças drásticas de temperatura.

Revestimento traseiro condutivo (Revestimento traseiro condutivo): Normalmente composto de nitreto de cromo para reduzir o acúmulo de estática e facilitar a retenção eletrostática.